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  • XWS-X—高亮

    XWS-X—高亮

    ISTEQ的XWS-X 是專門(mén)爲那些需要高強度的、高紫外光(guāng)源的客戶開發的。産品特點：•與XWS-65相(xiàng)比，整個光(guāng)譜範圍的亮度明顯更高•最大(dà)光(guāng)譜亮度up to 120mW mW/(mm2·sr·nm)•與 XWS-65相(xiàng)比，在250nm以下的紫外波段的亮度提高•輸出配置: Free space or FCU•雙端口配置•高功率配置，輸出亮度up to 200mW/(mm2·sr·nm)

  • XWS-65—基礎款

    XWS-65—基礎款

    ISTEQ’s XWS-65 光(guāng)源産品已經應用于各種應用，包括光(guāng)譜學，高分(fēn)辨率顯微鏡，薄膜測量，表面測量等。這款光(guāng)源基于最前沿的技術(shù)，已經在美國(guó)和歐盟注冊了自(zì)有知識産權。主要優點:• 連續激光(guāng)脈沖放(fàng)電• 寬光(guāng)譜範圍: 190 – 2500 nm• 高光(guāng)譜亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)• 高時空穩定性: STD<0.15%• 高使用壽命 (由于electrodeless

  • XWS-30—緊湊型

    XWS-30—緊湊型

    ISTEQ’s XWS-30 光(guāng)源是專門(mén)爲那些需要超緊湊、低散熱(rè)保持等離(lí)子高亮度的寬帶光(guāng)源的客戶而開發的産品特點:•一個緊湊的 “all in one” 的概念光(guāng)源•非常緊湊: 110x110x120mm, 沒有額外的冷(lěng)卻•光(guāng)譜亮度: up to 40 mW/(mm2·sr·nm)•輸出配置: Free space or FCU•全系統控制通過USB-RS485适配器筆記本/PC機(jī)

  • Hyperchromator—可(kě)調諧

    Hyperchromator—可(kě)調諧

    Hyperchromator通過使用孔徑高達f/1.5的鏡面來(lái)收集光(guāng)，利用了點離(lí)子體(tǐ)光(guāng)源的優勢，爲了确保最大(dà)的光(guāng)通量而不限制進口狹縫。Hyperchromator爲需要快(kuài)速和可(kě)調點光(guāng)源的應用而優化。産品特征：•不同的配置可(kě)選擇•快(kuài)速光(guāng)學， up to f/1.5 for highest throughput•均勻的光(guāng)輸出分(fēn)布•匹配ISTEQ XWS-30•寬調諧範圍：從(cóng)DUV到NIR•無輸入狹縫•

  • XWS-Dual port—雙光(guāng)束

    XWS-Dual port—雙光(guāng)束

    産品特征：•每個端口參數相(xiàng)同的雙光(guāng)束光(guāng)源•基于XWS-65開發•光(guāng)譜亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm）•高穩定性: STD<0.15%FCU 版本:•SMA or FC 光(guāng)纖接口•每根光(guāng)纖輸出功率可(kě)達0.5W

  • XWS-R—高功率

    XWS-R—高功率

    光(guāng)譜特點:•高功率版本:與默認XWS-65相(xiàng)比，輸出功率/亮度幾乎翻倍•光(guāng)譜亮度: up to 90 mW/(mm2·sr·nm)•可(kě)在兩種情況下完成：自(zì)由空間和FCU配置•FCU版本的光(guāng)纖輸出功率高達1W

  • KTN晶體(tǐ)

    KTN晶體(tǐ)

    在現有材料中，具有最大(dà)的電光(guāng)（EO）效應的光(guāng)學晶體(tǐ)：通過利用電光(guāng)（EO）的作(zuò)用，可(kě)以進行高速光(guāng)學控制。當應用于光(guāng)學掃描儀時，它可(kě)以以傳統技術(shù)無法實現的方式進行位移跟蹤。 特點通過使用高EO效應（Kerr效應），可(kě)以制造小型高速光(guāng)學掃描儀（光(guāng)學偏光(guāng)鏡），可(kě)變焦距透鏡或高效相(xiàng)位調制器（光(guāng)學開關）。

  • TAM軟X射線晶體(tǐ)

    TAM軟X射線晶體(tǐ)

    産品簡介在電子光(guāng)學有機(jī)晶體(tǐ)材料的探索研制中，目前已經找到一種晶體(tǐ)---三甲基甲胺晶體(tǐ)[CH2OH]3ONH2簡稱TAM，屬正交晶系，空間群PZ10n其晶胞參數a=7.786Å，b=8.785Å，c=8.835Å，z=4，熔點爲170~172°C。(0k0)有完整的解理(lǐ)面，(020)面2d=8.79Å，它與通常作(zuò)X射線光(guāng)譜儀的季四醇(簡稱PET)晶體(tǐ)(002)面的2d值(8.76Å)相(xiàng)近，其分(fēn)光(guāng)波段

  • KTN偏轉器

    KTN偏轉器

    KTN偏振器的超高速掃描和任意掃描将實現新的技術(shù)思想 優點/功能：與傳統産品相(xiàng)比，運行速度高出100倍以上由于光(guāng)是被電子轉移和外部電場控制，而沒有任何機(jī)械運動部件(jiàn)，因此傳統技術(shù)不能支持的高速操作(zuò)成爲了可(kě)能。例如(rú)，當将其應用于激光(guāng)雷達時，與傳統技術(shù)相(xiàng)比，将可(kě)能實現更高速度的目标識别。 與傳統産品相(xiàng)比，可(kě)以将設備尺寸減小到小其的1/100因爲它是在晶體(tǐ)上形成的電極的簡單結構，并且芯片尺寸很小，幾平方毫

  • 變焦透鏡

    變焦透鏡

    通過電光(guāng)激活，最适合與生(shēng)物相(xiàng)關的快(kuài)速激光(guāng)顯微成像。優點1. 超快(kuài)通過控制KTN晶體(tǐ)的電壓，焦距可(kě)以在微秒内調節，這比傳統的變焦鏡頭快(kuài)100倍。 聚焦機(jī)制：概念圖焦距偏移性能KTN可(kě)變透鏡用作(zuò)凸透鏡，焦距與所提供電壓的平方成正比。當施加1 kV時，使用實際介電常數的透鏡屈光(guāng)力的典型值爲1.0 m -1。 電壓vs焦點偏移

  • 可(kě)見(jiàn)光(guāng)、全幀CCD 相(xiàng)機(jī) ELSEs 系列

    可(kě)見(jiàn)光(guāng)、全幀CCD 相(xiàng)機(jī) ELSEs 系列

    公司介紹：成立于2008年(nián)的greateyes，是以德國(guó)柏林洪堡大(dà)學的技術(shù)爲基礎，迅速發展成爲國(guó)際知名的先進探測器生(shēng)産企業。如(rú)今，其科(kē)研與工(gōng)業客戶群體(tǐ)已遍布多個國(guó)家。greateyes開發、生(shēng)産并銷售高性能科(kē)學相(xiàng)機(jī)。其作(zuò)爲精确探測器，被廣泛應用于成像與譜學應用領域。同時，greateyes公司也生(shēng)産用于太陽能産業的電緻熒光(guāng)與光(guāng)緻熒光(guāng)檢測系統。 産品介紹：greateyes基于獨特的平台概念，提供約

  • 可(kě)見(jiàn)光(guāng)、全幀CCD相(xiàng)機(jī) ELSE i系列

    可(kě)見(jiàn)光(guāng)、全幀CCD相(xiàng)機(jī) ELSE i系列

    公司介紹：成立于2008年(nián)的greateyes，是以德國(guó)柏林洪堡大(dà)學的技術(shù)爲基礎，迅速發展成爲國(guó)際知名的先進探測器生(shēng)産企業。如(rú)今，其科(kē)研與工(gōng)業客戶群體(tǐ)已遍布多個國(guó)家。greateyes開發、生(shēng)産并銷售高性能科(kē)學相(xiàng)機(jī)。其作(zuò)爲精确探測器，被廣泛應用于成像與譜學應用領域。同時，greateyes公司也生(shēng)産用于太陽能産業的電緻熒光(guāng)與光(guāng)緻熒光(guāng)檢測系統。 産品介紹：greateyes基于獨特的平台概念，提供用

  • 光(guāng)學浮區爐零配件(jiàn)

    光(guāng)學浮區爐零配件(jiàn)

    供應日(rì)本CSC光(guāng)學浮區爐各種零配件(jiàn)我司有常備易損易耗件(jiàn)1500W鹵素燈現貨

  • 光(guāng)學浮區爐（O型圈密封型）

    光(guāng)學浮區爐（O型圈密封型）

    特征：日(rì)本CSC公司成功研制了一種四鏡光(guāng)學浮區爐.熔區水平的面的溫度分(fēn)布及其均勻,非常适合于用于生(shēng)長高質量的單晶.FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC(1) 通過使用四鏡加熱(rè)系統在熔區水平面獲得(de)了相(xiàng)當均勻的溫度分(fēn)布 (2) 提供多種類型的燈,以滿足多種材料的應用 鹵素燈: 根據客戶制備的材料不同,有各種類型的燈供客戶選擇,其中包 括 (150W,300W,5

  • 光(guāng)學浮區爐（磁流密封型）

    光(guāng)學浮區爐（磁流密封型）

    Feature ：Optical floating zone furnaces （Magnetic Liquid sealed） are designed for keeping the high-quality atmospheric condition by using a magnetic liquid seal kits from high vacuum to high pressure

  • 離(lí)子束刻蝕設備

    離(lí)子束刻蝕設備

    離(lí)子束刻蝕的原理(lǐ)是把氩氣等惰性氣體(tǐ)充入離(lí)子源放(fàng)電室，并使其電離(lí)形成等離(lí)子體(tǐ)，然後由栅極将離(lí)子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離(lí)子束進入工(gōng)作(zuò)室，射向固體(tǐ)表面，撞擊固體(tǐ)表面原子，使材料原子發生(shēng)濺射，達到刻蝕目的，純屬物理(lǐ)過程。基本功能1. 三維結構刻蝕：離(lí)子束刻蝕設備可(kě)用于刻蝕任何材料的三維結構，刻蝕陡直度優于85度，刻蝕精度可(kě)做到小于10nm。2. 材料表面清洗：采用考夫曼離(lí)子源産生(shēng)的準直離(lí)子束對樣

  • 雙離(lí)子束濺射沉積鍍膜設備

    雙離(lí)子束濺射沉積鍍膜設備

    離(lí)子束濺射沉積鍍膜原理(lǐ)是利用離(lí)子源産生(shēng)的高能離(lí)子束轟擊置于高真空中的靶材，使靶材原子濺射直接沉積在襯底表面上，在襯底表面重新組合形成薄膜，該鍍膜技術(shù)是純物理(lǐ)過程，無環境污染、無交叉污染。基本功能1. 可(kě)用于在各種襯底材料上濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導體(tǐ)材料的單層薄膜、多層薄膜，也可(kě)将單質材料通過反應合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜；2. 與CVD和PVD等其他(tā)薄膜技術(shù)相(xiàng)比，具有薄膜材料最廣

  • 反應離(lí)子刻蝕設備

    反應離(lí)子刻蝕設備

    反應離(lí)子刻蝕原理(lǐ)是将通入刻蝕室的工(gōng)藝氣體(tǐ)分(fēn)子解離(lí)，産生(shēng)等離(lí)子體(tǐ)。一方面由等離(lí)子體(tǐ)中的部分(fēn)活性基團與被刻蝕材料表面發生(shēng)化學反應，另一方面由于射頻自(zì)偏壓作(zuò)用，等離(lí)子體(tǐ)中的正離(lí)子對被刻蝕材料表面進行物理(lǐ)轟擊，從(cóng)而以物理(lǐ)化學相(xiàng)結合的方法達到材料表面刻蝕的目的。基本功能1. 該設備采用平闆電容放(fàng)電形式，将通入刻蝕室的工(gōng)藝氣體(tǐ)分(fēn)子解離(lí)，産生(shēng)等離(lí)子體(tǐ)。一方面由等離(lí)子體(tǐ)中的部分(fēn)活性基團與被刻蝕材料表面發生(shēng)化學反應

  • 高端國(guó)産X射線衍射儀

    高端國(guó)産X射線衍射儀

    廣泛應用于各種材料結構分(fēn)析的各個領域。分(fēn)析的材料包括：金屬材料、無機(jī)材料、複合材料、有機(jī)材料、納米材料、超導材料。可(kě)以分(fēn)析的材料狀态包括：粉末樣品、塊狀樣品、薄膜樣品、微區微量樣品。廣泛應用于粘土(tǔ)礦物、水泥建材、環境粉塵、化工(gōng)制品、藥品、石棉、岩礦、聚合物等研究領域采用強大(dà)的多毛細管平行光(guāng)束系統，可(kě)對應凹凸不同的樣品的分(fēn)析，擴大(dà)應用範圍。技術(shù)參數1. X射線發生(shēng)器：銅靶或钼靶，功率50W（工(gōng)作(zuò)電壓

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成都光速星球科技有限公司是一家專業技術(shù)服務公司，從(cóng)事(shì)科(kē)學技術(shù)相(xiàng)關領域内與科(kē)研、生(shēng)産等環節密切相(xiàng)關的光(guāng)電、材料分(fēn)析、材料制備、測量儀器等設備的銷售、 裝調和售後服務。業務範圍涵蓋國(guó)内各著名高校(xiào)、中國(guó)科(kē)學院所屬各研究所等系統内的研究機(jī)構等。

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